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真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

作者：  來源：  更新時(shí)間：2025-1-5  點(diǎn)擊次數(shù)：

 真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

　在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后，為了需要可能會(huì)要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?
　最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。
　只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
　此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對溫度非常敏感。在長時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
　光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿_地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。
　精確度的改進(jìn)源于很多因素，但最根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
 
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